描述

日立高科技公司宣布全球发布新的SU8200系列fe - sem -一系列高性能仪器，提供高分辨率成像和分析的完美融合。SU8200采用了一种新型冷场发射(CFE)炮，将传统的CFE固有的高分辨率和亮度与以前未见的束流稳定性和探头电流相结合。

先进材料研究的最新趋势意味着对光学元件和光束敏感材料(如用于锂离子电池、燃料电池、催化剂或新型电子设备的材料)的成像和分析的要求越来越高。表征这些现代材料需要扩展SEM能力，而不仅仅是单纯的分辨率。低和超低加速度电压下的高质量成像对于减轻光束损伤和揭示真实材料性能至关重要。高度灵敏的元素分析也需要充分了解材料。SU8200比以前的任何仪器都能更好地满足这些需求。

新SU8200系列的核心是创新的CFE源。这种新型CFE枪采用了一种新的真空系统和日立专利技术，以大大减少气体分子沉积在发射器尖端。发射器始终工作在“清洁”状态，发射电流和束流稳定性明显提高。其结果是在所有加速电压下提供高信噪比、高稳定性和难以置信的分辨率性能的终极SEM电子源。增强的稳定性和探针电流为增强的低压元素微量分析提供了机会。SU8200系列支持多种大直径硅漂移探测器(sdd)，用于高空间分辨率、高灵敏度和高速x射线探测。

新的双透镜探测器系统提供了最灵敏和灵活的电子探测系统可用。现在通过选择性过滤非弹性散射电子，直接检测散射电子回比能，实现了精细的对比度区分。这种选择性滤波对于在低加速度电压下增强材料对比度特别有效。

在仪器设计过程中对细节的仔细关注，包括振动控制措施和增强的光学稳定性有助于高分辨率的性能。

SU8200系列包括三种型号(SU8220, SU8230和SU8240)，提供各种stage, chamber和探测器配置，用于广泛的成像和分析应用。