描述

Redwood City, CA - 2014年8月- XEI科学公司在哈特福德CT的显微镜和微分析会议上宣布发布。为OEM扫描电子显微镜和高真空室制造商设计的等离子清洗新方法

“它只是工作™”-这是XEI Scientific对其新的Evactron®ES去污染™的评价-专为OEM集成到sem / fib上而设计。ES模型启动容易与正在申请专利的“POP”等离子点火过程。简化的真空等离子体自由基源(PRS)几乎可以在任何高真空系统中进行高效清洗。ES执行与XEI去年推出的Evactron Zephyr™模型相同的“流动余辉™”清洁。当与涡轮分子泵一起使用时，它提供了高达150 Å/min @等离子体源20cm的快速碳清洁率。ES模型以低成本提供优质的清洁能力，允许它部署在低成本的基本或高级sem和fib上。

ES由显微镜计算机控制。“Run”命令从SEM开始等离子清洗，“Stop”命令结束等离子清洗。在清洗周期中，显微镜联锁关闭电子枪阀门。它可以从任何真空压力启动，没有疏散系统的麻烦。这使得ES可以非常简单地从SEM软件操作。功率水平，清洗时间和清洗周期也由SEM计算机控制。

该疏散ES具有20 W @ 13.56 MHz射频电源，微处理器控制与外部计算机连接，固定阻抗匹配，疏散®PRS空心阴极电极，和100 - 250 VAC 50/60 Hz输入。它包括XEI的标准五年工厂保修。

XEI目前已在全球销售了超过1850套真空真空系统，解决了许多不同环境下的污染问题，包括电子显微镜，fib和其他真空样品室。XEI的最新创新将于2014年8月3日至7日在康涅狄格州哈特福德举行的年度显微与微分析会议上发布。